2024-09-19
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光刻機按光源類型可分為五類:I-line光刻機、KrF光刻機、ArF光刻機、ArFi光刻機(即ArF浸沒式光刻機,與ArF光刻機相比在曝光過程中在投影物鏡和晶圓之間放置了一層水膜)、EUV光刻機。按照應用領域可分為IC前道光刻機和IC后道光刻機。其中,IC前道光刻機主要應用于芯片制造,而后道光刻機主要用于芯片封裝。 隨著IC制程不斷向前推進,IC元件將更加復雜,光刻工藝平均所需的曝光層數不斷增多,這將驅動光刻機需求的增長。未來從7nm節點開始向下,EUV光刻機將逐漸被應用在關鍵層曝光,銷售量
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