2023-03-10
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三星在年初的IEEE國際固態電路大會(ISSCC)上,公布3nm制造技術的一些細節,包括類似全柵場效應晶體管(GAAFET)結構,率先開啟先進工藝在技術架構上的轉型。知名能源與電力媒體eenews報道稱,三星工廠已經流片采用環繞柵極 (GAA) 晶體管架構的3nm芯片,通過納米片(Nanosheet)制造出MBCFET(多橋通道場效應管),可顯著增強晶體管性能,主要取代FinFET晶體管技術。 為了能夠從臺積電手中*到客戶,三星半導體最近幾年一直在積極宣傳GAA(Gate All Aroun
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